半导体产业势迎来爆发期，未来芯片也将迎来长期发展，而废水处理量也同步增加，大量氨氮废水需要处理，这是个难题，半导体废水氨氮超标处理方法有哪些？一般来说有以下几种方法，我们一起来看看：

1、空气吹脱法，吹脱过程是将废水中的离子态铵(NH4+)，通过调节pH值转换成分子态氨，然后由通入的空气或蒸汽吹出。

2、蒸汽汽提法，对焦化工序产生的化工分离废水和残氨水进行蒸馏，经蒸氨处理，使其NH3—N含量下降，为下一步生化处理做必要的前期处理。

3、利用微生物的代谢功能，将废水中的有机溶解物或胶体物质分解氧化成稳定的无机物质，使废水得到净化，常用的方法有活性污泥法和生物膜法。

效益达到标准的方法

为了更好地推进晶片开发，对于废水处理一定要高效！通常处理后的废水一般在100ppm-500ppm之间，当工艺降至不能达标排放时，投加氨氮去除剂是一种有效的方法。

在废水中加入氨氮去除剂，可以利用强氧化作用来达到分解氨氮，5分钟后，就可以从水中迅速脱除废水中的氨氮，达到0.02mg/L~50mg/L没有问题。

以上是关于半导体废水氨氮超标常规的几种办法，如果您觉得以上的介绍能帮到您，欢迎收藏转发，想了解更多的话可以联系我们。